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Imec展示首个采用EUV光刻技术的晶圆级固态纳米孔制造工艺

2025-12-10 13:12   来源： 旅游都市网    阅读次数：3268

这项突破性技术使生命科学和医疗保健领域实现可扩展、高精度的生物传感器应用成为可能

比利时鲁汶2025年12月10日 /美通社/ --

  • Imec首次成功在300毫米晶圆上采用EUV光刻技术制造晶圆级固态纳米孔。 这项创新将纳米孔技术从实验室规模的概念转化为可扩展的平台，适用于生物传感、基因组学和蛋白质组学领域。

  • 纳米孔技术被誉为基因组学和蛋白质组学的变革者，但迄今为止，固态纳米孔因存在变异性和集成难题，始终未能实现大规模生产。 Imec的突破为高通量、兼容CMOS的生物传感器阵列铺平了道路，有望推动个性化医疗、快速诊断和分子数据存储的开发。

  • 其采用EUV光刻技术在300毫米晶圆上实现了晶圆级制造，制备出尺寸小至约10纳米的纳米孔，且在整个晶圆上具有高度均匀性。 该制造工艺有潜力实现小于5纳米孔径，随着工艺集成技术的进一步改进，有望取得更大突破。 电气和生物分子易位表征显示其信噪比高达6.2。

  • "Imec具有实现这一飞跃的独特优势。 我们可将传统上用于存储和逻辑领域的EUV光刻技术应用于生命科学领域。 利用我们的光刻基础设施，我们已证明能以分子传感所需的精度大规模制造固态纳米孔，"imec的第一作者及研发项目经理Ashesh Ray Chaudhuri表示， "这为医疗保健及其他领域的高通量生物传感器阵列创造了可能。"


责任编辑：小美
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